关键字 |
SRAM,深亚微米技术,亚阈值漏电 |
介绍 |
sram强烈影响整体功率、性能、稳定性和面积要求。为了管理有约束的权衡,它们必须专门为目标应用程序设计,因为静态随机存取存储器(SRAM)是现代数字片上系统(soc)[1]中的关键组件。半导体技术的快速发展导致使用深亚微米(DSM)工艺的晶体管的特征尺寸缩小。当MOS晶体管进入深亚微米尺寸时,就会出现功耗方面的不良后果。直到最近,动态或开关功率组件一直主导着集成电路消耗的总功率。由于数字电路有功功率与电源电压的平方定律依赖关系,电压缩放可能是降低动态功率的最有效方法。 |
因此,这就要求降低阈值电压以保持性能。低阈值电压导致亚阈值泄漏电流呈指数级增长。另一方面,随着技术的缩小,较短的通道长度导致通过关态晶体管的亚阈值泄漏电流增加。因此,在DSM过程中,静态或泄漏功率成为总功耗的相当大的比例。由于这些原因,静态功耗,即漏电功耗,已成为当前和未来硅技术总功耗的重要部分。 |
本文介绍了几种降低漏功率的超大规模集成电路技术。每种技术都提供了一种有效的降低漏电功率的方法。本文设计了SRAM单元[2]。采用180nm技术的低功耗技术,并与传统的SRAM电池进行比较 |
传统的6-t sram单元 |
静态随机存取存储器(SRAM)是当今最基本和最重要的存储技术之一。由于它们快速、健壮、易于在标准逻辑过程中制造,它们几乎普遍被用于与微控制器和微处理器相同的模具上。由于它们具有较高的速度,基于SRAM的高速缓存存储器和片上系统被广泛使用。由于器件的缩放,纳米SRAM设计面临着一些设计挑战。低功耗SRAM设计至关重要,因为它在高性能处理器中占总功耗和模具面积的很大一部分。SRAM单元必须满足在亚微米/纳米范围内工作的要求。CMOS技术[3]的标度对SRAM电池电特性的随机波动和大量漏电流有显著影响。 |
SRAM单元原理图如图1所示。它有2个上拉PMOS和2个NMOS下拉晶体管作为两个交叉耦合逆变器,两个2个NMOS访问晶体管在读写操作[4]期间访问SRAM单元。位线(BL和BLB)用于在读写操作期间以差分方式传输数据。为了获得更好的噪声裕度,将数据信号及其逆信号分别提供给BL和BLb。数据存储为两种稳定状态,存储点VR和VL分别记为0和1。 |
双逆变器锁存器是SRAM单元[5]的核心。锁存器的每一端都有一个值,这个值是另一端的补值。 |
LFS - sram单元 |
在带有堆栈的功率门控泄漏反馈中,我们结合了两种技术,即由于晶体管比休眠堆栈更少的泄漏反馈方法,其中我们将基本情况中的每个晶体管替换为三个晶体管,以及超低功耗技术,即堆栈方法,在这里我们结合了这两种技术。 |
IP-SRAM细胞 |
在新型功率门控的改进P3 (IP) SRAM单元中,提出了两个独立的子单元(写和读)结构的组合,并采用pMOS门控接地和休眠方案,以降低有功和备用功率,同时不损失cellsâ '  '性能。数据写入和存储在上亚单元,而下亚单元仅用于数据读取操作。在活动模式下,单元由VDD[6]提供。在数据写模式下,数据读子单元通过BLâ '  ' s与数据写子单元完全隔离,从而进一步提高了cellâ '  ' s的稳定性。 |
SRAM结构 |
一个通用的SRAM体系结构及其外围设备如下所示。SRAM阵列由行和列的位单元组成。对于小型缓存,可以将一个字的数据放在一行中;但是,在大内存中,由于空间限制,需要在每一行[7]中安排几个字的数据。每列的单元格共享相同的位行。在读访问之前,位行被预充电路预充到一个已知的值。行解码器用于在数组中选择一行。根据操作模式的不同,行中的存储单元与公共位行相连,单元中存储的数据要么由感测放大器读取,要么由写电路覆盖。对于较大的内存,使用相同数组的多个块,这样就需要一个称为块地址解码器的额外地址生成器。 |
行译码器 |
行解码器用于解码输入地址并选择字行。当执行写或读操作时,只选择一行,并传输8位数据。行解码器根据给定的3位地址选择其中的一行。为了设计一个8x8 SRAM,使用了3x8解码器[8]。wordline的数量等于SRAM单元数组[9]中的行数。 |
读出放大器 |
传感放大电路用于从电池中读取数据。此外,它通过感知位线上的微小电压差异,有助于降低整个SRAM芯片的功耗。为了获得高性能的sram,无论是在单元级设计中,还是在设计灵敏的传感放大器时,都必须注意读取速度。对更大的内存容量、更高的速度和更低的功耗的需求在设计中进行了权衡。 |
SRAM结构 |
结果 |
图18为IP-SRAM体系结构示意图,图17为IP-SRAM的仿真结果。从这些结果可以清楚地看出,由于保持独立的写子单元和读子单元,IP-SRAM的功耗大大降低。表1清楚地表明,对于70nm、90nm、120nm和180nm技术,IP-SRAM的功耗与基本SRAM相比大大降低。 |
结论 |
为了降低功耗,本文采用IP-SRAM技术设计了SRAM架构。在这种IPSRAM技术中,我们有独立的读写操作,我们将一个PMOS设备放置在下拉网络和地面之间,以降低功耗。在这里,整个SRAM架构使用180nm技术设计,我们观察到IP-SRAM架构与基本SRAM架构相比功耗更低。 |
因此得出结论,所提出的SRAM架构用于低功耗设计,这些设计的技术用于高性能和低功耗应用。 |
表格一览 |
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表1 |
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数字一览 |
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参考文献 |
- 国际半导体技术路线图,2003。http://www.publicitrs.net。
- 学术界。Lo和s - y。黄,“基于P-P-N的低泄漏和弹性亚阈值操作的10T SRAM单元”,IEEE固态电路杂志,Vol. 46, No. 3, 2011, pp. 695-704。
- N. Kr. Shukla, R. K. Singh和M. Pattanaik,“在深亚微米CMOS技术中降低常规srambit单元结构的门和亚阈值泄漏的新方法”,国际计算机应用杂志(IJCA),第23卷,第7期,2011,第23-28页。
- L.-J。张春春吴永强妈,J.-B。郑和l.f。毛,“55nm SRAM电池的漏功率降低技术”,电子工程学报,Vol. 28, No. 2, 2011, pp. 135-145
- 张凯(主编),“嵌入式存储器的纳米级vlsi”,集成电路与系统系列,施普林格。
- 在90纳米CMOS技术节点上设计SRAM阵列ShrivathsaBhargav和Jaime Peretzman ELEN 4321 -数字VLSI电路哥伦比亚大学,2007年秋季。
- B.S. Deepaksubramanyan和Adrian Nu ~ nez EECS系,雪城大学,incmos数字电路的亚阈值泄漏降低分析,第13届NASA vlsi研讨会,美国爱达荷州,2007年6月。
- Park, J. C,和Mooney III, V. J.“减少沉睡堆栈泄漏。超大规模集成(VLSI)系统,“IEEE学报,vol.14,no. 1。11,第1250-1263页,2006年11月。
- Kao, J. T.和Chandrakasan, A. P.“用于低功率数字电路的双阈值电压技术”,IEEE固体电路杂志,vol.35, no. 1。7, pp.1009 - 1018。
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