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表征Mo-AlNxOy由射频磁控溅射沉积薄膜

文摘

Mo-AlNxOy薄膜的生长在玻璃和硅基板由RF-reactive磁控溅射。衬底沉积温度随评估的目的成分变化,晶体结构,反射、吸收比和带隙的电影。结果表明,大多数非晶态电影最高吸收率。吸收率增加和带隙减少由于结晶度和钼插入。这种变化发生由于带隙的不同行为非晶材料、电子受体/捐助者增加和等离子体效应引起的钼插入。

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