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基于动力学蒙特卡罗方法的SiNX薄膜表面形貌建模与控制

摘要

本工作重点研究了采用低压化学气相沉积技术，在1023 K温度下使用硅烷(SiH4)和氨(NH3)的混合物制备的SiNx薄膜中嵌入非晶硅簇的形成。沉积过程是通过动力学蒙特卡罗模拟在一个三角形晶格。氨分子在模拟基质中的分布是用我们之前的模式描述的。该模式包括吸附和迁移的微观过程。分析了NH3/SiH4气体流量比和沉积时间对沉积动力学的影响。所得结果较好地描述了氮掺杂硅沉积过程的不同阶段。事实上，气体流量比的增加导致了高密度的较小的非晶硅簇的形成。此外，增加沉积时间可以形成更大的团簇。模拟结果也与我们之前的结果进行了比较，以更好地理解，一方面，使用二硅烷代替硅烷来进行这种沉积的兴趣，另一方面，评估氨在SiNx膜沉积过程中的作用。

Adil Bouhadiche, Tahar Touam

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