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室温下快速热处理对AZO薄膜电学和结构性能的影响

摘要

采用射频磁控溅射法制备了透明导电的掺铝氧化锌(AZO)薄膜，在室温下，在98%N2+，2%H2环境气体a中，在600℃下进行快速退火。研究了快速退火对AZO薄膜电学性能和结构性能的影响。600℃退火和不同退火时间有效地影响了AZO薄膜的结构特征和电学性能。采用x射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、霍尔测量(hall)和紫外/可见光谱(UV/VIS)对膜进行了表征。

崔世荣，崔均，金成镇

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