衬底图案对软弹性薄膜表面图案小型化的影响

15日联合活动^th材料科学与工程国际会议与展览会^{理查德·道金斯}国际应用结晶学会议

2018年11月7日- 8日|美国亚特兰大

Jayati Sarkar

印度理工学院，印度

海报和接受的摘要:Res. Rev. J Mat. science

DOI:10.4172 / 2321 - 6212 c8 - 036

摘要

小尺寸表面图案的优点已被广泛应用于半导体、集成电路、纳米器件、纳米传感器、光电子等领域。与传统的光刻技术相比，通过自组织来制作软弹性薄膜是在这种软界面上制造中/纳米长度尺度的一种更便宜的替代方法。由于外部接触器产生的力场的应用，自组织涉及到停留在基片上的聚合物薄膜的表面重组。雷竞技网页版薄膜自身重组以达到导致表面图案的最低能量状态。对于浇铸在光滑基底上的弹性薄膜，接触区之间的不稳定长度尺度据报道为~2.96*h (h为弹性薄膜的平均厚度)。雷竞技网页版软弹性薄膜的线性稳定性分析和数值模拟研究表明，当使用正弦图案衬底代替平面衬底时，可以获得更小的图案长度尺度。受到理论工作的启发，我们在三种图案基材上进行了软膜粘合实验，这些基材由自然产生的睡莲叶子、低成本的商业可用光盘和EBM创建的立方图案。在这些实验中，在黏附-脱粘循环的不同阶段形成的柱状、迷宫状和空腔的形态表面模式确实揭示了远小于2.96*h的微小长度尺度的形成。因此，目前的工作通过实验和数值模拟展示了一种简单而不复杂的方法来创建小型化图案，这在制造芯片实验室设备、自清洁材料、组织工程支架等方面具有广泛的应用。

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