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反应气体对铈氧化物薄膜涂层结构和光学特性的影响


13th先进材料与纳米技术国际会议

2017年10月26-28日,日本大阪

Zainab N Jaf, Hussein A Miran,蒋忠涛,Jean-Pierre Veder和Mohammed Noor Altarawneh

澳大利亚莫道克大学,伊拉克巴格达大学,澳大利亚科廷大学

海报及接受摘要:参考文献J

DOI:10.4172 / 2321 - 6212 c1 - 009

摘要

氧化铈薄膜涂层具有独特的光学性能。研究了溅射过程中反应气体组成对薄膜结构、化学键和光学性能的影响。二氧化铈沿(111)、(200)和(222)取向呈现立方萤石结构的多晶特征。XPS分析表明,在较低氩氧流比下制备的薄膜存在CeO2和Ce2O3两种氧化态,而随着氩氧流比的增加,薄膜完全氧化为CeO2。紫外-可见反射率数据的光学参数(α,ε1,ε2,n和k)表明,薄膜具有2.25-3.1 eV范围内的间接光学带隙。利用剑桥系列总能量包(CASTEP)中的密度泛函理论(DFT+U)模拟了CeO2簇基态下的一些光学性质。模拟的CeO2弛豫结构的电子态密度(DOS)显示出带隙,与实测的光学带隙吻合良好。实验和计算的吸收系数(α)具有类似的趋势,并且在一定程度上具有相似的波长值范围。总而言之,我们的理论发现与实验结果一致。

传记

Zainab N Jaf在伊拉克巴格达大学物理系纯科学教育学院/Ibn Al-Haitham获得硕士学位。她目前正在攻读博士学位。

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