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ISSN: 2321 - 6212

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优化命令nanoprinting利用聚焦离子束


14th在材料科学与工程国际会议和展览

2017年11月13 - 15,|拉斯维加斯,美国

喇嘛马哈茂德

阿联酋马斯达尔研究所

海报和接受抽象:启J垫。Sci >

DOI:10.4172 / 2321 - 6212 c1 - 012

文摘

聚焦离子束(FIB)是接收的重视在nanopatterning由于其直接铣和沉积等优点。像传统的光刻方法、剂量仍模式整合FIB的决定性因素。然而,剂量也取决于许多参数,如离子束电流、像素大小和位图文件的像素的数量。在这项工作中,我们研究了上述参数对剂量单位面积的影响,因此在整合模式。发现的剂量大约7.5 - -8.6 pC / im2或位图文件对应于4000 - 5000像素/ im2的电子束电流30 pA是为了获得合理布置得井然有序nanohole数组。虽然直接模式设计FIB采区收益更好的整合,是不实际的大规模的模式。nanoholes数组最后,较大规模的直径和间距为100 nm是通过使用一个剂量的8.6 pC / im2。这项工作提供了一些指导方针,在硅衬底nanopatterning光子应用程序。